“半导体硅单晶片研磨粉(CA9、CA12、CA15、CA20)”参数说明
形态: | 固体 | 磨料: | 刚玉 |
分散剂: | 悬浮助剂 | Ca20: | 14.5±1.0 μM |
Ca9: | 6.2±0.5 μM | Ca12: | 8.0±0.8 μM |
Ca15: | 10.5±1.0 μM | 产量: | 50000公斤/月 |
“半导体硅单晶片研磨粉(CA9、CA12、CA15、CA20)”详细介绍
1、CA的性能:本产品颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit的WCA相当。
2、CA的特点:
A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%;
D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的60%--70%;
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。
3、CA的用途:
1)电子行业:半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体(砷化镓、磷化铟)的研磨抛光。
2)玻璃行业:硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
3)涂附行业:特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
2、CA的特点:
A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%;
D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的60%--70%;
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。
3、CA的用途:
1)电子行业:半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体(砷化镓、磷化铟)的研磨抛光。
2)玻璃行业:硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
3)涂附行业:特种涂料和等离子喷涂的填充剂。